产品概述：
RK-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。三个温区分别由三个独立的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。可通过调节三个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，管式炉，炉管两端装有不锈钢法兰，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，pecvd管式炉，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，此系列真空气氛管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。
主要用途：
RK-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品. ，广泛用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
管内气液两相流压力降确定的复杂性：
(1)气液两相流没有直接的类似于摩擦系数与雷诺数之间的关系。
(2)气液相流速不同，存在相对运动，产生内摩擦损失而使压力降低。
(3)由于液相滞留量存在，管式炉膛，管内实际流通截面积减小，会使压力降增加。
(4)在垂直管内，液相连续不断的上升和下降，也会消耗能量而形成压力降。
炉管内气液两相流的适宜流型：
炉管内汽液两相流的流型最.好是雾状流(不允许出现液节流)；
泡点附近允许出现环状流或分散气泡流，cvd管式炉，除此之外，其它流型均应避免；
当定位点表示的流型完全不符合要求时，可以缩小炉管直径或加大注入的水蒸汽量来获得适宜的流型。
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