操作方式
针对实验室的使用要求，装卸料采用间歇式手动装、卸料。装料时将料盒放置在料盆支架上，加热管式炉，打开并取出炉管一端的密封端盖，管式炉温度，放入带料盒的料盒支架，再将密封端盖安装在炉管法兰上并拧紧卡箍螺栓。然后通入工艺气氛，氢气 管式炉，直到炉管内氧含量达到工艺要求时进行升温烧结。产品烧结工艺完成后，应继续通人小量的工艺气氛并进行降温，直到炉内温度低于工艺要求时，方可打开炉管密封端盖取出产品。
产品概述：
RK-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉以硅碳棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；高密度硅碳棒真空挤压成型；刚玉管外径为60、80mm。三个温区分别由三个独立的温控系统来控制且都为PID30段程序化控温。可通过调节三个温区的控温程序使炉管内温场形成一温度梯度，炉管两端装有不锈钢法兰，管式炉，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，抽真空时真空度能够达到10-3 Pa，此系列真空气氛管式炉可以用CVD或PVD方法来生长纳米材料和制作各种薄膜。
主要用途：
RK-1400T-S6010LB3三温区真空气氛管式炉是高校、科研院所、工矿企业做高温气氛烧结、气氛还原、CVD实验、真空退火用的理想产品. ，广泛用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
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