双温区管式炉
产品概述：
RK-T1600-L6010LB2双温区高温真空气氛管式炉以硅钼棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；30段可编程智能控制（可外接远程控制）； 加热区长度660mm；可通气氛及抽真空，炉体采用双层壳体结构，焦化管式炉厂家直供，并带有风冷系统，使得壳体表面的温度小于60度，炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维，减少热量的损失，焦化管式炉厂家联系电话，内炉膛表面涂有高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。该设备是科佳电炉自行研制开发的高性能高节能的新型管式电炉，产品具有先进合理的结构，升温快，操作简便，焦化管式炉，密封性能好，可预抽真空，真空能保持较长时间，也可以保持微正压。
主要用途：
RK-T1600TL6010LB2双温区高温气氛管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
方法的优缺点比较
各种方法都有其有缺点：从大的方面讲，直接PECVD法对样品表面有损伤，焦化管式炉生产厂家，会增加表面少子的复合，但是也正是由于其对表面的轰击作用，可以去除表面的一些自然氧化层，使得表面的杂质原子得到抑制，另外直接法可以使得氢原子或氢离子更深入地进入到多晶硅晶界中，使得晶界钝化更充分。
使用不同频率的PECVD系统，也各有一定的优缺点：
（1）频率越高均匀面积越小，越难于达到大面积均匀性。
（2）频率越低对硅片表面的损伤越严重。
（3）频率越低离子进入硅片越深，越有利于多晶硅晶界的钝化。
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