PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型：
直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是电极的一部分。
间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外，等离子体不直接打到样
品表面，样品或其支撑体也不是电极的一部分。
直接法又分成两种：
（1）管式PECVD系统：即使用像扩散炉管一样的石英管作为沉积腔室，使用电阻炉作为加热体，将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。这种设备的主要制造商为德国的Centrotherm公司、中国的捷佳伟创公司、第四十八研究所、七星华创公司、青岛赛瑞达公司。
（2）板式PECVD系统：即将多片硅片放置在一个石墨或碳纤维支架上，放入一个金属的沉积腔室中，腔室中有平板型的电极，pecvd管式炉，与样品支架形成一个放电回路，管式炉，在腔室中的工艺气体在两个极板之间的交流电场的作用下在空间形成等离子体，分解SiH4中的Si和H，以及NH3中的N形成SiNx沉积到硅表面。这种沉积系统目前主要是日本岛津公司在进行生产。
间接法又分成两种：
（1）微波法：使用微波作为激发等离子体的频段。微波源置于样品区域之外，先将氨气离化，再轰击硅烷气，产生SiNx分子沉积在样品表面。这种设备目前的主要制造商为德国的Roth&Rau公司。
（2）直流法：使用直流源激发等离子体，进一步离化氨气和硅烷气。样品也不与等离子体接触。这种设备由荷兰的OTB公司生产。
管式加热炉的特征（前言）：
（1）被加热物质在管内流动，故仅限于加热气体和液体，而且，这些气体或液体通常都是易燃易爆的烃类物质，同锅炉加热水和蒸汽相比，危险性大，供应管式炉，操作条件要苛刻得多。
（2）加热方式为直接受火式，加热温度高，传热能力大。
（3）只烧气体或液体燃料。
（4）长周期连续运转，不间断操作，便于管理。
热科炉业管式炉(图)_pecvd管式炉_管式炉由郑州热科炉业有限公司提供。郑州热科炉业有限公司（www.rekelu.cn）为客户提供“加热设备,耐火材料,加热元件,陶瓷制品,仪器仪表,真空设备”等业务，公司拥有“热科”等品牌。专注于电热设备等行业，在河南 郑州 有较高知名度。欢迎来电垂询，联系人：吕经理。