化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，真空高温管式炉，它是由硅烷和氮反应形成的。
产品用途
本系列设备适用于科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备
主要用于高温精密退火、微晶化、陶瓷釉料制备、模具退火、粉末冶金、塑胶粉沫实验、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切做高温工艺要求的热处理
产品特点
壳体采用优质冷轧钢板双层结构独特设计，管式炉，壳体颜色漆经过高温烘烤而成，经久耐用。
配有风冷系统，该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快等优点。
真空系统采用特种设计，具有操作方便、真空度高、真空泄露小，真空管式炉配件，（极限真空度：10-5pa）
密封系统采用不锈钢法兰与炉管及耐高温O型硅橡胶密封，气体经过流量计后由针阀开关控制，真空气氛管式炉，阀控配有进气阀、排气阀、抽真空阀，可充氮气、氩气等一切惰性气体
炉膛采用进口复合氧化铝纤维材料经独特工艺构筑，比传统电炉节能30%
控制系统采用微电脑人工智能调节技术，具有50段程序编程，并可编制各种升温、恒温、降温程序，控温精度高
晶体模块化可控硅控制、移相触发；采用优质加热元件
控制面板：全部采用数字化控制具有（超温、超压、超流、断偶、断电等保护功能）
（炉管、加热区可根据客户要求定制！）
热科炉业(图)、真空管式炉配件、管式炉由郑州热科炉业有限公司提供。郑州热科炉业有限公司（www.rekelu.cn）是专业从事“加热设备,耐火材料,加热元件,陶瓷制品,仪器仪表,真空设备”的企业，公司秉承“诚信经营，用心服务”的理念，为您提供优质的产品和服务。欢迎来电咨询！联系人：吕经理。