烟囱高度和炉子本身高度各有什么作用：
烟囱高度所形成的抽力用于：克服烟气流动过程中的总压力降，真空气氛管式炉纤维节能1600，克服空气通过燃烧器的压力降，保证炉膛内具有一定负压。炉子本身高度所形成的抽力：辐射室高度所形成的抽力用于克服空气通过的燃烧器阻力，对流室高度所形成的抽力用来保证辐射室顶的负压和克服烟气通过对流室的压力降的一部分。
化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，真空 管式炉，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，管式炉，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。
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