目前,在中国微波法PECVD系统占据市场的主流,而管式PECVD系统也占据不少份额,1800高温炉,而岛津的板式系统只有5~6条生产线在使用。直流法PECVD系统还没有进入中国市场。
除了上述几种模式的PECVD系统外,高温炉子,美国的Applied
Material公司还开发了磁控溅射PECVD系统,该系统使用磁控溅射源轰击高纯硅靶,在氨气的气氛中反应溅射,高温炉,形成SiNx分子沉积到样品表面。这种技术的优点是不使用易爆的硅烷气,安全性提高很多,另外沉积速率很高。
如果按照PECVD系统所使用的频率范围,又可将其分成以下几类:
■ 0 Hz:直流间接法——OTB公司
■ 40 KHz:Centrotherm公司管式直接法PECVD和Applied Material公司的磁控溅射系统
■ 250 kHz:岛津公司的板式直接法系统
■ 440 kHz:Semco公司的板式直接法
■ 460 kHz:Centrotherm公司管式直接法
■ 13.6 MHz:Semco公司和MVSystem公司的板式直接法系统
■ 2450 MHz:Roth&Rau公司的板式间接法系统。
1200度真空管式炉 RK1200系列
RK1200系列产品用途:
主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。
产品尺寸:
RK1200系列产品分为四个型号:RK1200-60 、RK1200-80 、RK1200-100 、RK1200-120
使用容积均为3L,炉膛尺寸分别对应wie:Φ60*1000mm 、Φ80*1000mm 、Φ100*1000mm 、Φ120*1000mm
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