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管式加热炉是如何分类的？

答：按功能可分为：加热型和加热—反应型两大类。

加热型管式炉：常压炉、减压炉、各种分馏塔进料加热炉、塔底重沸炉、焦化炉、重整炉和加氢炉等各种反应器（塔）进料加热炉；

加热—反应型管式炉：制氢炉、乙烯裂解炉等。

按主要传热方式分为：纯对流炉、纯辐射炉、辐射-对流型炉和双面辐射炉。

按炉型可分为：圆筒炉、立式炉和大型箱式炉三大类。

PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型：

直接法：样品直接接触等离子体，热风炉厂家管式炉 供应商，样品或样品的支撑体就是电极的一部分。

间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外，管式实验电炉厂家，等离子体不直接打到样

品表面，样品或其支撑体也不是电极的一部分。

直接法又分成两种：

（1）管式PECVD系统：即使用像扩散炉管一样的石英管作为沉积腔室，使用电阻炉作为加热体，将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。这种设备的主要制造商为德国的Centrotherm公司、中国的捷佳伟创公司、第四十八研究所、七星华创公司、青岛赛瑞达公司。

（2）板式PECVD系统：即将多片硅片放置在一个石墨或碳纤维支架上，管式炉石英管价格，放入一个金属的沉积腔室中，管式炉，腔室中有平板型的电极，与样品支架形成一个放电回路，在腔室中的工艺气体在两个极板之间的交流电场的作用下在空间形成等离子体，分解SiH4中的Si和H，以及NH3中的N形成SiNx沉积到硅表面。这种沉积系统目前主要是日本岛津公司在进行生产。

间接法又分成两种：

（1）微波法：使用微波作为激发等离子体的频段。微波源置于样品区域之外，先将氨气离化，再轰击硅烷气，产生SiNx分子沉积在样品表面。这种设备目前的主要制造商为德国的Roth&Rau公司。

（2）直流法：使用直流源激发等离子体，进一步离化氨气和硅烷气。样品也不与等离子体接触。这种设备由荷兰的OTB公司生产。

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