双温区管式炉
产品概述：
RK-T1600-L6010LB2双温区高温真空气氛管式炉以硅钼棒为发热元件；双层风冷结构；高纯氧化铝纤维真空吸附一次成型；30段可编程智能控制（可外接远程控制）； 加热区长度660mm；可通气氛及抽真空，炉体采用双层壳体结构，并带有风冷系统，管式炉，使得壳体表面的温度小于60度，炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维，辐射管式炉，减少热量的损失，内炉膛表面涂有高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。该设备是科佳电炉自行研制开发的高性能高节能的新型管式电炉，产品具有先进合理的结构，升温快，操作简便，密封性能好，可预抽真空，真空能保持较长时间，也可以保持微正压。
主要用途：
RK-T1600TL6010LB2双温区高温气氛管式炉广泛用于冶金、机械、轻工、商检、高等院校及科研部门，用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
沉积的均匀性与电极和腔室的设计很有关系。管式PECVD系统由于其石墨舟中间镂空，因此利用了硅片作为电极的一部分，因此辉光放电的特性就与硅片表面的特性有了一定的关系，式管式炉，比如硅片表面织构化所生成的金子塔尖端的状态就对等离子体放电产生影响，而目前硅片的电导率的不同也影响到等离子场的均匀性。另外管式PECVD的气流是从石英管一端引入，这样也会造成工艺气体分布的不均匀。
板式PECVD系统使用了衬底板作为电极，小管式炉，而且采用匀气的Shower系统，但是由于衬底板在长期加热后会有稍微的翘曲，从而造成平行板电极间距的不一致，也会造成片间不均匀。另外，等离子体直接法在大面积沉积时会造成由于高频波长所带来的附加的不均匀性。
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