化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。
马弗炉的使用及注意事项
1. 新炉的耐火材料里含有水分，另外为使加热元件生成氧化层，在开始使用前，必须先在低温下烘烤数小时并逐渐升温至900℃，且保 持5小时以上，以防炉膛受潮后因温度的急剧变化而破裂。
2. 在马弗炉加热时，炉外套也会变热，应使炉子远离易燃物，并保 持炉外易散热。
3. 加热元件的工作寿命取决于其表面的氧化层，破坏氧化层会缩短加热元件的寿命，而每次停机都会对氧化层有所损害，因此开机后 应避免停机。
4.使用时炉温不得超过最.高温度，以免烧毁电热元件，并禁止向炉 膛内灌注各种液体及熔解的金属。
5. 在做灰化试验时，一定要先将样品在电炉上充分碳化后，再放入 灰化炉中，以防碳的积累损坏加热元件。
6.几次循环加热后，炉子的绝缘材料可能出现裂纹，这些裂纹是热 膨胀引起的，对炉子的质量没有影响。
7. 马弗炉为实验用品，不得移作它用，样品一定要用洁净的坩埚盛 放，不得污染炉膛。
8. 电阻炉使用时，管式炉，要经常照看，防止自控失灵造成事故，石墨烯制备管式炉，晚间无人 值班时，切勿使用电阻炉。
9. 马弗炉使用完毕，三温区真空管式炉，应切断电源，管式炉中的石英管，使其自然降温。不应立即打开炉门，以免炉膛突然受冷碎裂，如急用，可先开一条小缝，让其降温 加快，待降温度降至200℃以下时，方可开炉门。
10. 使用马弗炉时，需注意安全，谨防烫伤。
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