PECVD法按沉积腔室等离子源与样品的关系上可以分成两种类型：
直接法：样品直接接触等离子体，样品或样品的支撑体就是电极的一部分。
间接法：或称离域法。待沉积的样品在等离子区域之外，等离子体不直接打到样
品表面，样品或其支撑体也不是电极的一部分。
直接法又分成两种：
（1）管式PECVD系统：即使用像扩散炉管一样的石英管作为沉积腔室，使用电阻炉作为加热体，将一个可以放置多片硅片的石墨舟插进石英管中进行沉积。这种设备的主要制造商为德国的Centrotherm公司、中国的捷佳伟创公司、第四十八研究所、七星华创公司、青岛赛瑞达公司。
（2）板式PECVD系统：即将多片硅片放置在一个石墨或碳纤维支架上，放入一个金属的沉积腔室中，腔室中有平板型的电极，与样品支架形成一个放电回路，三温区真空管式炉，在腔室中的工艺气体在两个极板之间的交流电场的作用下在空间形成等离子体，分解SiH4中的Si和H，以及NH3中的N形成SiNx沉积到硅表面。这种沉积系统目前主要是日本岛津公司在进行生产。
间接法又分成两种：
（1）微波法：使用微波作为激发等离子体的频段。微波源置于样品区域之外，先将氨气离化，管式炉中的石英管，再轰击硅烷气，产生SiNx分子沉积在样品表面。这种设备目前的主要制造商为德国的Roth&Rau公司。
（2）直流法：使用直流源激发等离子体，进一步离化氨气和硅烷气。样品也不与等离子体接触。这种设备由荷兰的OTB公司生产。
转化管管系结构有哪些，各有什么特点？
答：制氢炉转化管管系一般采用单管型，包括转化管、上下尾管、上下集合管等。转化管在炉膛内为加热段，炉膛外为伸出段，管内设置有支持催化剂的伞型托架，两端设置有法兰和法兰盖，实验室高温管式炉，以便装卸催化剂。转化炉管有冷底和热底两种结构。冷底即转化管下端伸出炉底(如图13所示)，但伸出部分不被加热，虽然多用一段合金钢，管式炉，热损失也较大，但便于催化剂的卸出。热底结构即转化炉管下端不伸出炉底，可以节省一段昂贵的合金钢，热损失较少，但催化剂不能从炉底卸出，只能从顶部吸出。
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